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      THERMAL NIL 桌面式納米光柵熱壓印機  

      THERMAL NIL 桌面式納米光柵熱壓印機
      NIR-MFD-S-SM-2  NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發機構設計和開發的簡單易用、性能穩定的研發型設備,用戶可以通過CNI設備高效、低成本地實現高精度的納米熱壓工藝,許多知名的研發機構均購買了CNI的設備和NILT CNI熱壓設備。
       華東華南臺灣 Daisy Lee
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       daisy@microphotons.com
       華北西南東北 Tina
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       tina@microphotons.com
       西北 華中 Lily
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       Lily@microphotons.com
      產品型號 1
      貨號 操作 名稱
      H80050007  桌面式納米光柵熱壓印機 CNI-V2.1   [PDF] 熱零點高達240攝氏度;UV NIL@365nm;壓印壓力 0.3至11Bar;真空壓印(1mbar);納米硅片和基板尺寸 高達200 mm    價格 : 請聯系客服 庫存/貨期:請咨詢客服
      總覽

      NIR-MFD-S-SM-2  NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發機構設計和開發的簡單易用、性能穩定的研發型設備,用戶可以通過CNI設備高效、低成本地實現高精度的納米熱壓工藝,許多知名的研發機構均購買了CNI的設備和NILT CNI熱壓設備。

      產品特點

      ● 占地小、操作簡便

      ● 可實現高質量的圖形復制

      ● 可實現納米熱壓設備的一切功能,而無需昂貴的工藝設備。

      產品應用

      ● 在硅片上制作納米級光柵

      ● 壓印易碎的材料(例如III-V族材料)

      ● 微結構加工

      ● 制作壓印印章

      ● 保護母版的適用壽命

      ● 熱壓高深寬比結構圖形

      技術參數

      THERMAL NIL 主要性能指標:

      ● 集成控溫卡盤,可對溫度進行測量、控制

      ● 可適用于100mm(4 英寸以下)所有尺寸和形狀的壓印模板。

      ● 可適用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials

      ● 壓印程序可進行編程

      ● 適用所有熱壓印材料

      ● 設備可用于復制壓印母板

      ● 壓印溫度可達200 攝氏度

      ● 壓力范圍:1‐10 bar

      ● 壓印精度:40nm 或更好 (可完成工藝驗收)

      ● 將模板加熱和溫度測量集成與壓印載盤上

      ● 載盤適用于易碎襯底

      ● 快速升溫,快速降溫,擁有技術上認可技術的卡盤設計,可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘

      ● 提供COC 有機聚合物中間層軟膜(先進的母板復制工藝),耗材及工藝培訓

      ● 提供壓印相關材料

      ● 提供工藝培訓和支持

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      壓印程序可進行編程(溫度、壓力、時間)

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      壓印實例

         


          


      聚合物中間層工藝

      NIL TECHNOLOGY ApS (NILT)高分子聚合物中間層壓印技術可以實現納米壓印/熱壓印非平面化的壓印,同時高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實現納米結構的轉移和復制。可保護昂貴的母板因多次轉印而損壞,同時用于母板的復制。

        


        


      NIL TECHNOLOGY ApS (NILT) 部分應用實例:

      1、仿生應用用于制作昆蟲眼部六角結構

        

      2、微型注射針頭結構

        

      3、方形結構陣列500nm

      4、分布式反饋激光器,240nm光柵結構

      5、磷化銦(InP),突出高度:112 nm

       










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